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Wall dress: moda y arquitectura unidas

miércoles, agosto 30th, 2017

Samsung EGO Innovation Project, un certamen que une moda y tecnología, ha premiado en su octava edición a la firma ZAP & BUJ por su proyecto Wall dress, una propuesta que convierte planos arquitectónicos en patrones de moda. Detrás de esta iniciativa, que verá la luz el próximo 19 de septiembre, están Elena Zapico y Raquel Buj, dos arquitectas cuyas carreras han creado sinergias con el mundo textil. Ambas se conocieron cursando estudios de postgrado de especialización en Arquitectura, Moda y Diseño en la ETSAM, donde aprendieron herramientas como  diseño paramétrico y patronaje. Elena Zapico ya había colaborado anteriormente con diseñadores de prestigio como Sybilla.

Wall dress aproxima la arquitectura al cuerpo «haciendo posible la recuperación de la cercanía y conexión entre ambos que se ha ido desvaneciendo en los espacios que habitamos». La propuesta presenta una serie de paneles arquitectónicos en forma de muros o veladuras que se convierten en vestidos a través de la tecnología y el uso de tejidos y materiales con memoria de forma (MSP y MSA). Con este proyecto han trabajado dentro del campo de la creación y fabricación digital de nuevas pieles: materiales que se adaptan a la forma del cuerpo al recibir un estímulo de calor. Para el desarrollo de la parte tecnológica de la propuesta, ZAP & BUJ ha colaborado con Aitex, un centro de investigación, innovación y servicios técnicos avanzados para el sector textil y la confección de textiles técnicos, y con el Instituto de Ciencia y Tecnología de Polímeros del CSIC.